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(株)堀場製作所 2018年 堀場雅夫賞の募集

2018年3月1日 (木) から 2018年5月18日 (金) まで

本賞は、国内外の大学または公的な試験研究機関において、分析・計測およびその応用に関する科学技術分野で顕著な業績を上げつつある研究者・技術者を奨励表彰するものです。

対象技術分野
半導体デバイスの製造プロセスの中でも特に重要な、薄膜形成プロセスやエッチングプロセスの制御に寄与できる先端分析・計測技術を募集します。
なお、薄膜材料となる新規材料に関する研究や薄膜特性の分析に限定した研究は除きます。

公募期間
2018年3月1日 (木) から 2018年5月18日 (金) まで
公募元名称

株式会社 堀場製作所

http://www.mh-award.org/

分野

理工系

分析・計測およびその応用に関する科学技術分野

カテゴリー

助成(賞)金の金額(総額)
初年度に副賞100万円、受賞翌年にも100万円
備考

◆応募者資格: 大学、公的試験研究機関に所属し、対象技術分野の研究・開発に従事する研究者・技術者。

◆申請時注意点:応募者の上長の推薦書要。

※詳細はHPをご確認ください。

http://www.mh-award.org/apply/

(本件掲載担当:研究推進課学術研究推進係)

(注1)部局確認が「必要」となっている場合は・・・

所属部局の担当者に応募予定であることを連絡し、必要な手続きを確認してください。
ただし、医学系研究科に所属している方は、部局確認が「必要」となっていなくても、応募を予定している場合は必ず担当係(総務課企画係)へ問い合わせてください。

(注2)総長(学長)推薦が必要な申請書類については・・・

公印押印箇所以外の総長(学長)名等を含む必要箇所を全て記載し、所属部局の担当者経由で申請してください。

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